十月_先進封裝設備材料專題|美中科技戰所牽動之半導體產業脈動
自2018年起,美中科技戰逐步升級,兩國在技術領域的競爭已成為全球焦點。這場科技戰從貿易摩擦開始,逐漸轉向以國家安全和技術領導地位為核心的全面對抗,涵蓋了半導體、人工智慧、5G技術等關鍵領域。雖然美國推出了多項針對中國的技術封鎖措施,但雙方的對抗仍在持續,以目前的態勢,雙方仍處於對立狀態,加上美國大選的不確定性為未來的科技政策持續營造出「一個世界2個系統的局面」。
2024美國總統大選倒數,在地緣政治的變動下,半導體從科技產品轉變為重要戰略物資。也再次使台積電
目前美國總統大選逐漸逼近,拜登政府也逐步加強針對中國的出口禁令,多次修訂了防止中國取得美國AI晶片和製造設備的相關規定,從EDA與設備到高階的AI晶片,美國頻頻出招目標是減緩中國AI的發展。先前傳出甚至還可能限制nVidia向中國銷售H20等特供版降規晶片產品,目前雖難以確認執行的可行性,但此傳聞彷彿像是在枷鎖上又上了蠟封的雙重禁錮,透露出趨勢與端倪。美國鉗制中國晶片發展的戰略越來越廣,2024年4月5日,其與歐盟宣佈將延長三年合作,以應對半導體產業中的「干預行為」。美國先前已祭出許多針對先進晶片的出口限制,其政策也不排除從增加關稅入手,但這種做法可能會對全球的貿易造成影響。而美國商務部長雷蒙多(Gina Raimondo)強調全球約60%的成熟晶片現由中國製造,這也代表著相比先進晶片,成熟晶片的製造與出口更難以限制。雖然中國受到許多來自美國的出口禁令,但這也被動地加速了中國實現自給自足的目標。近期中國已成功開發出「氟化氬(ArF)雷射光刻機」的深紫外光(DUV)曝光設備。此舉讓中國自主研發的DUV曝光機填補了其半導體設備製造的一項空白。雖然與荷蘭艾司摩爾(ASML)的設備相比[以相同波長下的分辨率以及疊對誤差(overlay)相比]差距超過15年,但在重重管制下所展現出的中國自給自足決心,讓美國絲毫不敢掉以輕心。因此我們研判在美國與其同盟之國家相繼宣布收緊半導體製造設備的出口管制措施的同時,持續且擴大先進設備/材料的限制事會發生的路徑。
過去晶片的效能都仰賴電晶體微縮而提升,但隨著元件尺寸越來越靠近物理極限,微縮的困難與成本也越來越高。因此為了滿足運算力的高效需求,使用先進封裝技術將晶片架構轉向多層堆疊或多元組合,成為一延續摩爾定律的推手與必要之技術。許多先進封裝技術推出時間超過八年,但在AI熱潮的推動下引起巨大關注。有鑑於美國的限制範圍越來越廣泛及先進封裝技術的重要性,智璞研判「先進封裝設備與材料」將會是美國在這場科技戰中的下一個策略方向,像是混和鍵合(Hybrid bonding)、晶圓薄化(Wafer Thinning)、模封材料LMC等關鍵設備與材料,都有機會再限制出口名單當中。






