September_Panel Level Packaging Special|Global Overview of Fan-out Panel Level Packaging Supply Chain Development
Equipment and materials are important pillars to promote the development of the market and industry. According to market research firm Yole Développement, the global fan-out packaging equipment and materials market is estimated to reach over US$700 million in 2024, of which the share of wafer-level packaging equipment and materials will be 49% and 34%, and that of panel packaging equipment and materials will be 10% and 7%, accounting for about US$70 million and US$49 million, respectively. 10% and 7% respectively, amounting to US$70 million and US$49 million. The core equipment for fan-out panel level packaging process includes exposure, sputtering, plating, solid crystal, mold sealing and other machines, which are described as follows.
- 曝光設備:係將紫外光照射光阻再搭配顯影製程以形成所需圖案,用於製作重佈線層、通孔與凸塊。因曝光精度與解析度屬微米等級,可用雷射直寫或步進式曝光機。前者無需光罩但精度較差,主要供應商是SUSS、Adtec、Screen、ORC、Orbotech;後者精度較佳但設備昂貴,主要供應商是Canon、Rudolph。
- 濺鍍設備:係將電漿態的氬氣離子藉由電場引導衝擊金屬靶材,撞出的靶材原子沉積至基板上,用於製作重佈線層的阻障層、電鍍銅用晶種層,主要供應商是Ulvac、Evatec、Tango System。
- 電鍍設備:係利用電化學反應在晶種層上沉積銅金屬,用於製作重佈線層的導線與填充通孔,主要供應商是Atotech、Manz、Ramgraber。
- 固晶設備:係將晶片從已經切割好的晶圓取出並精準黏貼在基板上,高取放速度與精準度是性能要求重點,主要供應商是ASM Pacific、Kulicke & Soffa。
- 模封設備:係將封膠注入成型腔,在高溫與高壓作用下使其熔融流動填滿所有晶片後再於高熱固化,主要供應商是Towa、Yamada。這機台也是目前HBM所使用的模封機台。此設備會攸關晶片的對準進而影響到良率,以設備的關鍵程度來看,此類設備相對重要。
扇出型面板級封裝的重要製程材料有基板、光阻、感光介電層、封膠、電鍍液,說明如下:
- 暫時性基板:目前大多使用玻璃基板,主要供應商是Corning、Schott、AGC、NGK、NEG,它的延伸應用為玻璃通孔基板,Corning為市占率26%的全球第一大供應商,和LPKF、Samtec、Kiso Micro、Tecnisco等廠商的合計市占率超過70%,市場研究機構Valuates Reports指出2022年全球市場規模約6000萬美元,預估至2029年將增長至8億美元,年平均複合成長率達34.2%。
- 光阻:用於製作通孔與凸塊的微影製程,它有液體與乾膜等兩種類型,前者採用狹縫塗佈,後者則直接壓合貼附於基板,主要供應商為JSR、TOK與Merck。
- 感光介電層:用於製作重佈線層,低熱應力與固化溫度是發展趨勢,現有環氧樹酯、矽膠、PI、BCB、PBO等成分。主要供應商有Fujifilm、JSR、Asahi Kasei、Shin-Etsu、Sumitomo、DOW、AGC、Toray、HD Microsystems、Nippon Kayaku。
- 封膠(LMC):用於模封製程以形成晶片保護層,低熱應力、低翹曲、抗濕氣、高耐焊錫性與低黏度等特性是發展趨勢。大致可分成液態、顆粒與片狀等三類,面板級封裝主要採用片狀封膠。主要供應商有Nagase Chemtex、Shin-Etsu、Panasonic、Hitachi Chemical、Nitto Denko、Sumitomo、Henkel。不同於HBM所用的MRFU,面板級封裝需要更好的固定性,因此在LMC中會以KMC(固態)的LMC搭配TOWA機台為主流,這也是很有可能被列入禁制名單的組合。
- 電鍍液:用於電鍍銅製程,主要由加速劑、抑制劑及平滑劑組成,透過不同成分藥劑相互作用以達到良好的填孔效果、外觀、平整度,主要供應商有Atotech、DuPont、Technic、MacDermid Enthone。
當前台灣已建構完整的半導體封測產業鏈,許多國產設備商已打入台積電、日月光、力成等廠商的扇出型晶圓級封裝產線,這些廠商多具備印刷電路板或顯示器等製程設備的研製經驗,很容易切入扇出型面板級封裝的設備供應鏈,並已推出相關產品,例如:東捷科技的雷射鑽孔、雷射切割、缺陷檢測設備;群翊工業的壓膜、烘烤、光阻塗佈設備,志聖工業的壓膜、烘烤設備;均豪精密的研磨薄化、缺陷檢測設備;鈦昇科技的雷射鑽孔、雷射改質設備;弘塑科技與辛耘企業的濕製程設備;亞智科技的濕製程與光阻塗佈設備;由田新技與晶彩科技的瑕疵檢測設備;友威科技的濺鍍與電漿蝕刻設備;鑫科中鋼旗下材料廠鑫科,近年拓展半導體材料布局,據傳所生產的特殊合金載板,已開始供應群創及歐系IDM大廠供應鏈。。至於封裝材料國內的自給率比較低,目前仍主要仰賴日商供應,已推出相關產品之廠商有封膠的長興化工、感光介電層的達興材料、光阻的新應材與永光化學。若有相關的禁制令,應很有機會替補上陣。
最後,雖然FOPLP技術發展超過8年,但遲遲未能普及應用,關鍵在於良率與品質的問題一直無法克服;更重要的是,相關的封裝材料、製程設備都需要重新開發與設計。以玻璃材質為例,其優缺點參半,缺點是易碎、難加工碎屑多容易造成Defect;優點是化學、物理以以及光學特性佳(玻璃的電阻值較低,因此導電、散熱等效果更好,具高可靠性)等。過去因缺乏重量級指標大廠參與導致發展並不順遂,使得市場成長幅度有限且少有終端產品採用,直到近期輝達、超微等AI GPU業者開始尋求更大尺寸、單位成本更低的封裝技術,甚至希望可以取代或成下世代台積電CoWoS的技術,擁有豐厚資源的台積電,以及過去的巨人Intel等大廠投入研發後才大量受到業界矚目,這將有助於快速提升產能與市場規模。台灣的半導體、顯示器與印刷電路板等產業發展歷史悠久且供應鏈完備,十分適合發展面板級封裝產業,未來台積電若能順利導入量產,以其積極擴廠速度有望讓台灣成為扇出型面板級封裝生產重鎮,所帶動設備與材料龐大商機將可嘉惠台灣相關廠商,且重要程度有機會媲美現在的CoWoS。下個月(十月)智璞科技專題將會討論目前先進封裝中最熱門的2.5D/3D IC封裝,而扇出型面板級封裝與其他先進封裝一樣是在AI加速晶片的製造技術路徑上。目前部份的技術仍然屬於未定之數,因此暫時難以全面的分析關鍵性與重要性,但讀者可以依據下個月(2.5D/3D IC)同樣邏輯,回頭看目前既有的情況與南處還是可以看出些端倪。






